标题: 低于大气压的化学气相沉积-SACVD [打印本页]
作者: jfkj2020    时间: 2021-1-6 11:11
标题: 低于大气压的化学气相沉积-SACVD
用于制造微电子器件的薄膜都是使用某种沉积技术形成的，该术语是指在基板上形成沉积物。在半导体器件制造中，以下沉积技术（及其常用的缩写）为：
低压化学气相沉积-LPCVD
等离子体增强化学气相沉积-PECVD
低于大气压的化学气相沉积-SACVD
大气压化学气相沉积-APCVD
原子层沉积-ALD
物理气相沉积-PVD
超高真空化学气相沉积-UHV-CVD
类金刚石碳-DLC
商业电影-CF
外延沉积-Epi

薄膜沉积（1月6）.docx

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用于制造微电子器件的薄膜都是使用某种沉积技术形成的，该术语是指在基板上形成沉积物。在半导体器件制造中 ...



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