光刻工艺是半导体制造中最为重要的工艺步骤之一 -

标题: 光刻工艺是半导体制造中最为重要的工艺步骤之一 [打印本页]

作者: jfkj2020 时间: 2021-1-12 10:29
标题: 光刻工艺是半导体制造中最为重要的工艺步骤之一

光刻工艺是半导体制造中最为重要的工艺步骤之一。主要作用是将掩膜板上的图形复制到硅片上，为下一步进行刻蚀或者离子注入工序做好准备。光刻的成本约为整个硅片制造工艺的1/3，耗费时间约占整个硅片工艺的40～60%。

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