薄膜沉 积 | 溅射系 统 | 靶 | 溅射频 率 (W) | 溅射压 强 (Pa) | 溅射气 体流量 比 | 衬底温 度 (℃) | 靶间距 (cm) | 沉积速率 (A/min) |
ZnO | 射频溅 射 | Zn | 200 | 0.37 | Ar: O2(1 :1) | 280 | 10 | 21.22 |
薄膜沉 积 | 溅射系 统 | 靶 | 溅射频 率 (W) | 溅射压 强 (Pa) | 溅射气 体流量 比 | 衬底温 度 (℃) | 靶间距 (cm) | 退火温 度 (℃) |
ZnO | 射频溅 射 | Zn | 150 | 0.7 | Ar: O2(1 :2) | 350 | 10 | 800 |
组别 | 温度 (℃) | 靶材 | 靶间距 | 功率 (W) | 生长速度 nm/min | 退火温度 (℃) |
1 | 常温 | ZnO | 10cm | 100 | 8 | 室温 |
2 | 常温 | ZnO | 10cm | 100 | 8 | 室温 |
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